Evatec薄膜沉积设备

Evatec是瑞士薄膜设备制造商,源自1946年的Balzers AG公司,产品包括CLUSTERLINE集群式设备、BAK蒸发镀膜设备以及LLS EVO II、HEXAGON和SOLARIS溅射设备。

CLUSTERLINE 200集群式镀膜设备

模块化集群平台,适用于4~8英寸晶圆,可在不破真空的情况下组合刻蚀、PVD、PECVD和PEALD工艺。VTM8传输模块最多连接6个工艺模块,BPM批量模块每批处理15片8英寸晶圆,载台温度范围–30~1000°C。

  • 晶圆4~8英寸
  • 最多6个工艺模块
  • BPM每批15片8英寸
  • 载台温度–30~1000°C

CLUSTERLINE 300集群式镀膜设备

适用于8~12英寸晶圆的平台,在同一真空环境中组合PVD、PVE软刻蚀、除气和冷却。真空传输模块最多连接6个工艺模块,前端模块最多3个FOUP装载端口。载台可冷却至–30°C、加热至750°C,可处理厚度低至100微米的薄晶圆。

  • 晶圆8~12英寸
  • 最多6个工艺模块
  • 载台加热至750°C
  • 薄晶圆低至100微米

CLUSTERLINE 600面板级镀膜设备

集群式设备,适用于最大650×650毫米面板,集成除气、刻蚀和溅射沉积,用于扇出型面板级封装和先进IC载板。真空传输模块最多连接5个工艺模块;刻蚀采用PSS600电容耦合等离子源,溅射采用配4个旋转阴极的SSS600。面板设备于2017年推出。

  • 面板最大650×650毫米
  • 最多5个工艺模块
  • SSS600配4个旋转阴极
  • 2017年推出

BAK 501~1401蒸发镀膜设备

配热蒸发源、束源炉和电子枪的蒸发镀膜设备,平台尺寸0.5~1.4米:从面向高校研发的BAK 501到每批装载28片8英寸基片的BAK 1401。提供分体腔室和剥离工艺型号,配5或6兆赫石英晶振控制,光学监控可达1700纳米。已交付2000多台。

  • 平台尺寸0.5~1.4米
  • BAK 1401每批28片
  • 光学监控至1700纳米
  • 已交付2000多台

Multi BAK与BAK911集群式蒸发设备

Multi BAK于2022年推出,在大气机械手周围集成最多4个BAK工艺腔,从前端到工艺腔全程自动传送。BAK911为单腔型号,通过装载锁传送基片。两者均适用于6和8英寸晶圆,能耗最多降低60%。

  • 最多4个BAK腔室
  • 晶圆6和8英寸
  • 能耗最多降低60%
  • 2022年推出

HEXAGON晶圆级封装设备

用于200和300毫米晶圆的凸点下金属化、重布线层和扇出型晶圆级封装,配同步分度器、28或44片大气批量除气器及最多5个工艺端口。接触电阻低于2.0毫欧,刻蚀不均匀性低于2%,套件寿命超过20000片。

  • 晶圆200和300毫米
  • 接触电阻低于2.0毫欧
  • 套件寿命超20000片
  • 每小时80片以上

LLS EVO II立式溅射设备

立式动态批量溅射设备,装载腔与工艺腔分开:最多5个DC、RF或DC/RF阴极及1个刻蚀源。基片2~8英寸,最大200×230毫米,5分钟内完成尺寸转换,最多3个溅射源共溅射。全球装机超过300台。

  • 最多5个溅射阴极
  • 基片最大200×230毫米
  • 5分钟内转换尺寸
  • 全球装机超300台

SOLARIS S151与S380在线式溅射设备

配同步载具分度器的在线式溅射设备,适用于全自动工厂:S151最多6个工艺站,基片对角线最大8英寸;S380最多5个工艺站,最大15英寸。可进行PVD、刻蚀和最高400°C的RTP加热,靶材和屏蔽件更换分别不超过30和60分钟。

  • S151最多6个工艺站
  • S380对角线15英寸
  • RTP加热至400°C
  • 靶材更换30分钟

按工艺和基片选择Evatec设备

设备按工艺和基片尺寸选型。CLUSTERLINE 200适用于4~8英寸晶圆,可在不破真空的情况下组合刻蚀、PVD、PECVD和PEALD;CLUSTERLINE 300适用于8~12英寸晶圆;CLUSTERLINE 600适用于最大650×650毫米面板;HEXAGON用于200和300毫米晶圆的凸点下金属化、重布线层和扇出型晶圆级封装。

金属和介质蒸发镀膜可选平台尺寸0.5~1.4米的BAK蒸发设备及适用于6和8英寸晶圆的集群式Multi BAK;立式批量金属化和磁性薄膜可选LLS EVO II;自动化工厂的高速溅射可选在线式SOLARIS S151和S380。

公司与服务体系

Evatec AG位于瑞士,源自1946年的Balzers AG公司。核心技术包括刻蚀、蒸发、溅射、PECVD和PEALD;公司拥有200多项专利,其ECL实验室配备30多台沉积设备。

制造商拥有100多名现场服务和应用工程师,仓库储备约5000种备件。

工业设备

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