RENA Technologies湿法化学处理设备

RENA Technologies是德国湿法化学处理设备制造商，总部位于居滕巴赫，成立于1993年，产品包括浸没式、单片式和喷淋式湿法设备、电镀设备、干燥机及光伏电池设备。

Convergence、Evolution与Revolution+浸没式湿法工作台

用于前道和后道工艺的刻蚀、清洗和去胶。Convergence为全自动平台，适用于150、200和300毫米晶圆，可带或不带载具。Evolution为直线式全自动工作台，适用于100～200毫米晶圆，批次25、50和100片。Revolution+为配旋转机械手的紧凑型工作台。

Inception为半自动设备，适用于从研发到中试生产：晶圆最大200毫米，掩模最大7×7英寸，2～4个化学槽，刻蚀均匀性不超过1%。Vanguard为全自动设备，适用于300毫米晶圆，配4～8个腔室。ACE用于碳化硅湿法化学刻蚀。

SAT酸喷淋设备和SST溶剂喷淋设备用于50～200毫米晶圆的刻蚀、清洗和去胶，每批装载25片。一个腔室可组合最多五道工艺，单腔产能每小时75～100片。Genesis马兰戈尼干燥机每个干燥周期异丙醇用量低于20毫升。

EPM 2为手动喷泉式电镀设备，适用于研发和小批量生产，晶圆2～8英寸。EPA为自动平台，具备晶圆自动传送和工艺中晶圆旋转。可电镀金、银、铜、锡、镍及锡银合金，边缘排除区不超过3毫米，用于凸点下金属化、凸点、铜柱和硅通孔。

全自动工作台，用于200和300毫米裸晶圆的刻蚀和清洗：研磨后、化学机械抛光后、外延生长前及最终清洗。材料包括单晶硅、锗、砷化镓和氮化镓。最终清洗系统FC去除颗粒和金属，并集成马兰戈尼干燥。

BatchTex N用于单晶硅去损伤层和碱性制绒，BatchEtch N用于碱性或酸性刻蚀及去除硼发射极。产能最高每小时15000片，按每槽片数分为N600、N400和N50型号，可处理厚度低至100微米的薄片。

InEtchSide 4+基于NIAK 4+平台，在12～14条通道上单面去除二氧化硅及磷硅玻璃、硼硅玻璃，用于IBC和TOPCon电池。InOxSide 3在5～6条通道上完成边缘隔离、背面抛光和去玻璃，产能最高每小时6000片。

BatchDeGlue用于切割后硅块脱胶和预清洗，BatchFinalClean在制绒前对最大G13规格硅片进行最终清洗，配超声波清洗。monoTEX添加剂用于不含异丙醇的碱性制绒，形成2～5微米的金字塔绒面。

设备按工艺、材料和晶圆尺寸选型。150、200和300毫米晶圆的批量处理选用Convergence、Evolution和Revolution+浸没式工作台；关键刻蚀及从研发到中试生产选用单片式Inception（最大200毫米），300毫米晶圆选用Vanguard，碳化硅刻蚀选用ACE。

酸和溶剂喷淋处理可选SAT和SST，干燥可选COMPASS SRD、Genesis马兰戈尼干燥机和VaporDry（异丙醇用量比沸腾式蒸汽干燥机低85%），电镀可选EPM 2和EPA。设备可处理硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓和磷化铟。

光伏电池方面，RENA生产BatchTex N和BatchEtch N槽式设备（产能最高每小时15000片）、InEtchSide 4+和InOxSide 3链式设备、BatchDeGlue和BatchFinalClean硅片清洗设备以及用于无异丙醇制绒的monoTEX添加剂。

RENA Technologies GmbH成立于1993年，总部位于德国黑森林地区的居滕巴赫，员工约560人；除半导体和光伏外，公司还生产玻璃和医疗器械加工设备。

RENA Technologies及型号名称为其各自权利人的商标，仅用于说明我们为之寻找配件的设备。SpareX 不是RENA Technologies的官方经销商、分销商或代表，与商标权利人无关联。每项产品的来源、文件和质保在报价单中逐项说明。