Лазерные системы EKSPLA

EKSPLA — литовский производитель твердотельных и волоконных лазеров и лазерной электроники для науки и промышленности, основан в 1992 году в Вильнюсе, 170 сотрудников, дочерние компании в США, Великобритании и Китае.

Наносекундные лазеры NL300, NL230 и NL200

Nd:YAG-лазеры с модуляцией добротности. NL300 с ламповой накачкой даёт до 1100 мДж, длительность 3–6 нс, частота 5–20 Гц, гармоники до пятой. NL230 с диодной накачкой — до 190 мДж и до 100 Гц. Компактный NL200 с воздушным охлаждением — до 4 мДж при частоте до 2500 Гц.

Энергия до 1100 мДж
Длительность 3–6 нс
NL230: частота до 100 Гц
NL200: частота до 2500 Гц

Пикосекундные лазеры PL2250, PL2230 и PL2210

Nd:YAG-лазеры с синхронизацией мод. PL2250 с ламповым усилителем даёт до 100 мДж при частоте до 20 Гц, длительность 30 пс (20 пс по заказу). PL2230 с диодной накачкой — до 40 мДж при 100 Гц. PL2210 с воздушным охлаждением работает на килогерцовой частоте.

Энергия до 100 мДж
Длительность 30 пс
PL2230: частота 100 Гц
Запуск камеры: менее 10 пс

Промышленные фемтосекундные лазеры FemtoLux

FemtoLux для микрообработки даёт до 50 Вт на 1030 нм; у FemtoLux HE до 1 мДж, в пачке импульсов до 2 мДж. Частота от одиночного импульса до 4 МГц. Охлаждение «сухое», без воды: блок питания и охладитель в одном корпусе 4U. FemtoLux 3 — волоконный лазер мощностью 3 Вт.

Мощность до 50 Вт
FemtoLux HE: энергия 1 мДж
Частота до 4 МГц
Охлаждение без воды

Наносекундные лазеры NT с перестройкой длины волны

В одном корпусе лазер накачки и параметрический генератор света. NT340 перестраивается без разрывов от 192 до 4400 нм, до 150 мДж в видимом диапазоне при частоте до 20 Гц. NT230 — 192–2600 нм, NT240 — 210–2600 нм при 1000 Гц, NT270 — 2500–4475 нм для ИК-спектроскопии.

Диапазон 192–4400 нм
Энергия до 150 мДж
NT240: частота 1000 Гц
NT270: диапазон до 4475 нм

Пикосекундные системы PT, PGx01 и FemtoTune

PT277 объединяет пикосекундный параметрический генератор и лазер накачки в одном корпусе, без разрывов перестраивается от 4800 до 18 500 нм. PT401 и PT403 работают в диапазоне 210–2300 нм, PGx01 — 193–2300 нм с пиковой мощностью более 50 МВт. FemtoTune даёт импульсы короче 50 фс.

PT277: диапазон до 18 500 нм
PT403: диапазон 210–2300 нм
Пиковая мощность 50 МВт
FemtoTune: менее 50 фс

Системы высокой интенсивности UltraFlux, PicoFlux, NanoFlux

Системы под параметры эксперимента: энергия до 10 Дж. UltraFlux HE даёт до 1 Дж при 5 Гц и импульсы до 10 фс, PicoFlux HE — до 2,2 Дж при 10 Гц, NanoFlux SLM — до 10 Дж, NanoFlux HP с диодной накачкой — до 5 Дж. В 2023 году с Light Conversion установлена SYLOS 3 в ELI-ALPS (Венгрия).

Энергия до 10 Дж
Импульс от 10 фс
PicoFlux HE: энергия 2,2 Дж
UltraFlux HE: энергия 1 Дж

Фотоакустические лазеры PhotoSonus и спектрометры SFG

PhotoSonus M — передвижной источник для фотоакустической визуализации: до 250 мДж, перестройка 330–2300 нм, частота 10 или 20 Гц; накачка, генератор и питание в одном корпусе. PhotoSonus X с диодной накачкой — до 90 мДж при 100 Гц. Спектрометры суммарной частоты исследуют поверхности.

Энергия до 250 мДж
Перестройка 330–2300 нм
PhotoSonus X: частота 100 Гц
Спектрометры поверхности

Лазерная электроника: драйверы, блоки питания, термостаты

Драйверы лазерных диодов uniLDD и блоки питания uniPS дают ток от 10 до 1200 А и мощность до 6 кВт. Драйверы ячеек Поккельса PCD — до 9,8 кВ и до 6 МГц. Генератор задержек SY4000 — 8 каналов с разрешением 25 пс, термостат нелинейных кристаллов TK8 нагревает до 80 °C.

Ток диодов 10–1200 А
Ячейки Поккельса: 9,8 кВ
Задержки: 8 каналов
Термостат до 80 °C

Подбор лазера EKSPLA по задаче

Для абляции, лазерно-искровой спектроскопии и накачки параметрических генераторов выбирают наносекундные Nd:YAG-лазеры: NL300 до 1100 мДж при 5–20 Гц, NL230 до 190 мДж при частоте до 100 Гц, NL200 до 4 мДж при частоте до 2500 Гц.

Для спектроскопии с временным разрешением подходят пикосекундные PL2250 (до 100 мДж, 30 пс), PL2230 (до 40 мДж при 100 Гц) и килогерцовый PL2210.

Перестраиваемую длину волны дают NT340 (192–4400 нм, до 150 мДж), NT230, NT240 и NT270, пикосекундные PT277 (до 18 500 нм), PT401, PT403 и PGx01.

Для микрообработки предназначены промышленные FemtoLux до 50 Вт и волоконный FemtoLux 3, для фотоакустической визуализации — PhotoSonus M и X, для физики высоких энергий — UltraFlux, PicoFlux и NanoFlux с энергией до 10 Дж.

Производство и проекты EKSPLA

EKSPLA основана в 1992 году в Вильнюсе (Литва), её корни — лазерное подразделение EKSMA, созданное в 1983 году. В компании 170 сотрудников, дочерние компании работают в США, Великобритании и Китае, по миру действует более 25 представительств.

В 2019 году в исследовательском центре ELI-ALPS (Венгрия) запущена лазерная система SYLOS, созданная вместе с Light Conversion, в 2023 году там же установлена SYLOS 3. Серия UltraFlux HE изначально построена для ELI-ALPS. Лазерная электроника EKSPLA стоит более чем в 30 000 лазерных систем.

EKSPLA и названия моделей — товарные знаки их правообладателей. Они указаны только для обозначения оборудования, для которого мы подбираем запчасти. Компания SpareX не является официальным дилером, дистрибьютором или представителем EKSPLA и не связана с правообладателем. Происхождение, документы и гарантия указываются по каждой позиции в коммерческом предложении.