EKSPLA纳秒、皮秒与飞秒激光器

EKSPLA是立陶宛科研与工业用固体激光器、光纤激光器和激光电子制造商，1992年在维尔纽斯成立，拥有170名员工，在美国、英国和中国设有子公司。

NL300、NL230和NL200纳秒激光器

调Q Nd:YAG激光器。闪光灯泵浦的NL300单脉冲能量最高1100毫焦，脉宽3～6纳秒，重复频率5～20赫兹，可配至五次谐波模块。二极管泵浦的NL230能量最高190毫焦，频率最高100赫兹。风冷紧凑型NL200能量最高4毫焦，频率最高2500赫兹。

脉冲能量最高1100毫焦
脉宽3～6纳秒
NL230频率最高100赫兹
NL200频率最高2500赫兹

PL2250、PL2230和PL2210皮秒激光器

锁模Nd:YAG激光器。PL2250采用闪光灯泵浦功率放大器，单脉冲能量最高100毫焦，频率最高20赫兹，脉宽30皮秒（可选20皮秒）。二极管泵浦的PL2230在100赫兹下能量最高40毫焦。风冷PL2210工作在千赫兹重复频率。

脉冲能量最高100毫焦
脉宽30皮秒
PL2230频率100赫兹
条纹相机触发抖动小于10皮秒

FemtoLux工业飞秒激光器

FemtoLux用于微加工，1030纳米输出功率最高50瓦；FemtoLux HE单脉冲能量达1毫焦，脉冲串模式最高2毫焦。重复频率从单脉冲到4兆赫兹。采用无水干式冷却，电源与冷却单元集成于一个4U机箱。FemtoLux 3为3瓦光纤激光器。

输出功率最高50瓦
FemtoLux HE能量1毫焦
重复频率最高4兆赫兹
干式冷却不用水

NT系列纳秒可调谐波长激光器

泵浦激光器与光学参量振荡器集成于同一机箱。NT340可在192～4400纳米范围内无间隙调谐，可见光波段能量最高150毫焦，频率最高20赫兹。NT230覆盖192～2600纳米，NT240在1000赫兹下覆盖210～2600纳米，NT270覆盖2500～4475纳米，用于红外光谱。

调谐范围192～4400纳米
脉冲能量最高150毫焦
NT240频率1000赫兹
NT270最长4475纳米

PT、PGx01与FemtoTune可调谐系统

PT277将皮秒光学参量振荡器和泵浦激光器集成于同一机箱，可在4800～18500纳米范围内无间隙调谐。PT401和PT403覆盖210～2300纳米，PGx01覆盖193～2300纳米，峰值功率超过50兆瓦。FemtoTune输出脉宽小于50飞秒。

PT277最长18500纳米
PT403波长210～2300纳米
峰值功率超过50兆瓦
FemtoTune脉宽小于50飞秒

UltraFlux、PicoFlux与NanoFlux高强度系统

按实验参数定制，单脉冲能量最高10焦。UltraFlux HE在5赫兹下能量最高1焦，脉宽可短至10飞秒；PicoFlux HE在10赫兹下最高2.2焦；NanoFlux SLM最高10焦；二极管泵浦NanoFlux HP最高5焦。2023年与Light Conversion合作在匈牙利ELI-ALPS安装SYLOS 3系统。

脉冲能量最高10焦
脉宽短至10飞秒
PicoFlux HE能量2.2焦
UltraFlux HE能量1焦

PhotoSonus光声激光器与和频光谱仪

PhotoSonus M为移动式光声成像光源：能量最高250毫焦，调谐范围330～2300纳米，频率10或20赫兹，泵浦激光器、参量振荡器和电源集成于一体。二极管泵浦的PhotoSonus X在100赫兹下能量最高90毫焦。和频光谱仪用于研究表面与界面。

输出能量最高250毫焦
调谐范围330～2300纳米
PhotoSonus X频率100赫兹
表面和频光谱仪

激光电子：驱动器、电源与晶体温控

uniLDD激光二极管驱动器和uniPS电源输出电流10～1200安，功率最高6千瓦。PCD普克尔盒驱动器输出电压最高9.8千伏，频率最高6兆赫兹。SY4000数字延时发生器有8个通道，分辨率25皮秒；TK8非线性晶体炉温度最高80 °C。

二极管电流10～1200安
普克尔盒电压9.8千伏
延时发生器8通道
晶体炉最高80 °C

按用途选择EKSPLA激光器

烧蚀、激光诱导击穿光谱和参量振荡器泵浦一般选用纳秒Nd:YAG激光器：NL300能量最高1100毫焦，频率5～20赫兹；NL230能量最高190毫焦，频率最高100赫兹；NL200能量最高4毫焦，频率最高2500赫兹。时间分辨光谱可选皮秒PL2250（最高100毫焦，30皮秒）、PL2230（100赫兹下最高40毫焦）和千赫兹PL2210。

可调谐波长可选NT340（192～4400纳米，最高150毫焦）、NT230、NT240、NT270，以及皮秒PT277（最长18500纳米）、PT401、PT403和PGx01。微加工可选最高50瓦的工业FemtoLux和光纤FemtoLux 3，光声成像可选PhotoSonus M和X，高能物理可选能量最高10焦的UltraFlux、PicoFlux和NanoFlux。

EKSPLA的制造与项目

EKSPLA于1992年在立陶宛维尔纽斯正式成立，前身是1983年创建的EKSMA激光部门。公司有170名员工，在美国、英国和中国设有子公司，在全球有25家以上代表处。

2019年，与Light Conversion合作研制的SYLOS激光系统在匈牙利ELI-ALPS研究中心投入运行，2023年SYLOS 3在同一中心安装。UltraFlux HE系列最初为ELI-ALPS研制。EKSPLA激光电子已用于超过30000套激光系统。

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