Вакуумные установки напыления Korvus Technology

Korvus Technology — британский производитель модульных установок физического осаждения покрытий из Хай-Уикома, с 2020 года в группе Judges Scientific: HEX, HEX-L, HEX-XL, HEX Mini, HEX Cluster и источники напыления.

Настольная установка напыления HEX

HEX — компактная система для стола или стойки электроники высотой менее 1,5 м. Столик образцов до 100 мм, до 3 источников напыления, камера 12 л (24 л в стековой сборке), остаточное давление <5×10⁻⁷ мбар. Турбомолекулярная откачка и ПО Niobium в комплекте, камера из алюминия или стали.

Столик до 100 мм
До 3 источников напыления
Камера 12 л, в стеке 24 л
Вакуум <5×10⁻⁷ мбар

Установка HEX-L со шлюзовой камерой

HEX-L стоит на передвижной раме: столик образцов до 150 мм, до 6 источников напыления, камера 50 л (100 л в стеке), расстояние источник–подложка до 24 см (60 см). Есть шлюзовая камера с пневматическим затвором, подключаются электронные пушки, источники наночастиц и удалённой плазмы.

Столик до 150 мм
До 6 источников напыления
Камера 50 л, в стеке 100 л
Шлюзовая камера

Установка HEX-XL для крупных образцов

HEX-XL — старшая система серии на широкой раме: стандартный столик 8 дюймов с расширением до 300 мм, до 6 источников напыления, камера 86 л (172 л в стеке). Вмещает объёмные образцы и мелкие партии, панели большего размера, шлюзовую камеру и сторонние источники.

Столик до 300 мм
До 6 источников напыления
Камера 86 л, в стеке 172 л
Объёмные образцы и партии

Настольные установки HEX Mini-S и Mini-T

HEX Mini — компактная установка начального уровня с одним источником: образцы до 50 мм, камера 3 л, давление <5×10⁻⁶ мбар. Mini-S несёт магнетрон постоянного тока с блоком 208 Вт, Mini-T — термический испаритель TES на 720 Вт с опцией контроля толщины. Применение: подготовка образцов к РЭМ и ПЭМ.

Образцы до 50 мм
Камера 3 л
Mini-S: магнетрон 208 Вт
Mini-T: испаритель 720 Вт

Кластерные системы HEX Cluster

Кластер начинают с одной камеры HEX-L и добавляют камеры позже, образцы переносятся в вакууме. Линейный перенос объединяет до 3 камер в ручном или автоматическом режиме, роботизированный — до 6 камер. В центральной камере стоят робот UHV Design и узел плазменной очистки подложек.

Линейный перенос: до 3 камер
Робот: до 6 камер
Плазменная очистка подложек
Перенос образцов в вакууме

Магнетронные источники FISSION

FISSION переключается между распылением на постоянном токе и ВЧ без специнструмента и простоя. Магнетроны с магнитами SmCo работают от блоков постоянного тока, ВЧ, импульсных и HiPIMS, распыляют металлы, магнитные материалы, диэлектрики, полупроводники. Охлаждение — на быстросъёмных разъёмах.

Магниты SmCo
Питание DC, ВЧ и HiPIMS
ВЧ-блок 300 Вт, 13,56 МГц
Реактивное распыление

Электронно-лучевые испарители TAU и TAU UHV

TAU — мини-испаритель без отклоняющих магнитов на 4 тигля: металлы испаряются последовательно или одновременно из стержней диаметром до 4 мм или тиглей 1 см³. Мощность 250 Вт (опция 500 Вт), охлаждение водой от 0,5 л/мин. TAU UHV ставится на фланец CF63, прогрев до 250 °C.

4 тигля
Мощность 250 Вт
Стержни до 4 мм
Фланец CF63 у TAU UHV

Термические испарители TES и ORCA

TES — термический испаритель с лодочками 1–5 см³ на 50–2200 °C: лодочки и нити меняются быстро, термопара ставится по желанию. ORCA испаряет органику и литий при 50–600 °C: тигель 15 см³ (опция 5 см³), встроенная термопара типа K, ПИД-регулятор и водяное охлаждение.

TES: нагрев 50–2200 °C
Лодочки 1–5 см³
ORCA: нагрев 50–600 °C
Термопара типа K

Подбор установки Korvus HEX по образцу и источникам

Систему выбирают по размеру образца и числу источников напыления. HEX ставится на стол: столик до 100 мм, до 3 источников, камера 12 л. HEX-L на передвижной раме принимает образцы до 150 мм, до 6 источников и шлюзовую камеру; HEX-XL — столик до 300 мм и объёмные образцы.

Для подготовки образцов к РЭМ и ПЭМ есть однопозиционная HEX Mini.

Системы HEX собираются в стек для большего расстояния источник–подложка, переводятся в режим распыления вверх или вниз и дополняются источниками без выезда инженера. Камеры HEX и HEX-L выпускаются из алюминия или стали.

Методы напыления и многокамерные линии

Магнетроны FISSION работают от источников постоянного тока, ВЧ, импульсных и HiPIMS; электронно-лучевой TAU испаряет металлы из стержней и тиглей, TES — из лодочек, ORCA — органику при 50–600 °C. В HEX-L и HEX-XL встраиваются источники удалённой плазмы HiTUS (Plasma Quest) и источники наночастиц Nanostream (Theris Nanotechnology).

HEX Cluster объединяет камеры HEX-L переносом образцов в вакууме: линейный перенос до 3 камер, робот до 6 камер. Такие линии применяют для перовскитных солнечных элементов, аккумуляторов и OLED.

Korvus Technology и названия моделей — товарные знаки их правообладателей. Они указаны только для обозначения оборудования, для которого мы подбираем запчасти. Компания SpareX не является официальным дилером, дистрибьютором или представителем Korvus Technology и не связана с правообладателем. Происхождение, документы и гарантия указываются по каждой позиции в коммерческом предложении.