Вакуумные системы магнетронного напыления и компоненты Semicore Equipment / Semicore

Технологический подбор компонентов и оснастки для вакуумных систем Semicore Equipment / Semicore: магнетронные катоды, датчики QCM, нагреватели и контроллеры HMI.

Компактные магнетронные системы Semicore Equipment / Semicore SC450 и SC450-LL

Установки магнетронного распыления Semicore Equipment / Semicore серии SC450 спроектированы для исследовательских лабораторий и мелкосерийного выпуска микроэлектроники. Модуль с вакуумным шлюзом Load Lock исключает разгерметизацию технологической камеры при смене пластин.

Конфокальное расположение до трех магнетронных катодов диаметром 2 или 3 дюйма
Шлюзовая камера Load Lock с магнитным манипулятором для быстрой загрузки образцов
Турбомолекулярная откачная система с предельным остаточным вакуумом до 5e-7 Торр
Вращающийся столик подложек с регулируемым резистивным нагревом вплоть до 600 °C

Модульные кластерные PVD-комплексы Semicore Equipment / Semicore серии CAPOS

Промышленные платформы Semicore Equipment / Semicore CAPOS и CAPOS-CT обеспечивают автоматизированное многомишенное напыление в кластерной конфигурации. Центральный роботизированный модуль распределяет подложки между несколькими независимыми камерами осаждения.

Кластерная архитектура Cluster Tool с центральным вакуумным роботом-манипулятором
Многомишенная револьверная схема для поочередного нанесения многослойных пленок
Поддержка источников питания постоянного тока DC, импульсного Pulsed DC и ВЧ RF
Автоматизированное управление вакуумными шиберами и прецизионным напуском газов

Многоисточниковые вакуумные системы Semicore Equipment / Semicore TriAxis-LL

Установки Semicore Equipment / Semicore TriAxis-LL оснащены трехосевой юстировкой катодов для прецизионного совместного распыления (Co-sputtering). Система позволяет формировать сложные многокомпонентные сплавы и градиентные тонкопленочные структуры подложек.

Независимая регулировка углов наклона и фокусного расстояния каждого катода
Режим одновременного распыления трех различных материалов с раздельным питанием
Высокая однородность осаждения на подложках диаметром до 200 мм с вращением
Оптический и кварцевый контроль толщины каждого наносимого компонента в потоке

Линейные конвейерные системы Semicore Equipment / Semicore серии SC1500

Высокопроизводительные комплексы Semicore Equipment / Semicore SC1500 непрерывного действия предназначены для поточной обработки плоских изделий большой площади. Линейные магнетроны обеспечивают равномерное нанесение покрытий на архитектурное стекло и панели.

Горизонтальная или вертикальная конвейерная транспортировка держателей подложек
Протяженные планарные магнетронные катоды длиной до 1500 мм для широких зон
Дифференциальная вакуумная откачка межсекционных шлюзов с буферными зонами
Энергоэффективные источники питания с системой защиты от микродуговых пробоев

Установки трибологических DLC-покрытий Semicore Equipment / Semicore SC8600

Специализированные комплексы Semicore Equipment / Semicore серии SC8600 служат для нанесения сверхтвердых алмазоподобных углеродных слоев (DLC). Оборудование сочетает плазмохимическое осаждение PECVD и распыление металлических адгезионных подслоев в одном цикле.

Комбинация магнетронного распыления металлов и плазменного осаждения PECVD
Генерация высокоплотной плазмы для ионной очистки и травления деталей перед циклом
Нанесение градиентных связующих подслоев хрома и титана для высокой адгезии
Формирование твердых покрытий с рекордно низким коэффициентом сухого трения

Системы автоматизации HMI и контроллеры Semicore Equipment / Semicore

Аппаратно-программный комплекс автоматизации Semicore Equipment / Semicore на базе HMI и PLC управляет сложными циклами вакуумного напыления. Модуль интегрирует показания датчиков давления, контроллеров расхода газов и кварцевых микровесов в едином интерфейсе.

Графический интерфейс HMI с рецептурным управлением и протоколированием партий
ПИД-регулирование рабочих потоков технологических газов и парциального давления
Связь с кварцевыми измерителями скорости осаждения QCM для контроля толщин
Многоуровневая система безопасности с автоматической аварийной блокировкой

Инженерный регламент магнетронного распыления в системах Semicore Equipment / Semicore

При выполнении магнетронного распыления на установках Semicore Equipment / Semicore критически важно поддерживать стабильное парциальное давление технологического аргона в диапазоне от 1e-3 до 5e-3 Торр при постоянном потоке технологического газа.

Инженеры предприятия контролируют чистоту рабочей газовой среды с помощью масс-спектрометра, исключая присутствие паров влаги и углеводородов. Перед зажиганием рабочего разряда производится предварительное травление поверхности подложки ионным пучком для удаления окислов.

Точная регулировка напряжения смещения на держателе подложек позволяет управлять микроструктурой, плотностью и механическими напряжениями осаждаемых проводящих пленок.

Прецизионное совместное распыление Co-Sputtering на установках TriAxis-LL

Многоисточниковые вакуумные комплексы Semicore Equipment / Semicore TriAxis-LL реализуют технологию синхронного совместного распыления нескольких мишеней для синтеза функциональных интерметаллических соединений и оксидных слоев.

Операторы настраивают индивидуальные параметры мощности высокочастотных и импульсных генераторов для каждого катодного узла, добиваясь заданного стехиометрического соотношения компонентов по площади полупроводниковой пластины.

Прецизионные шаговые приводы точно юстируют углы наклона магнетронов в направлении подложки. Автоматизированная система управления непрерывно опрашивает независимые кварцевые датчики, динамически корректируя подачу мощности генераторов.

Инженерное обслуживание шлюзовых камер Load Lock и высоковакуумных шиберов

Регламентное техническое обслуживание шлюзовых камер Load Lock технологических комплексов Semicore Equipment / Semicore направлено на поддержание сверхвысокого вакуума без частых циклов напуска воздуха в основную камеру.

Инженеры сервисной службы регулярно проверяют состояние эластомерных уплотнений Viton на загрузочной дверце и высоковакуумных шиберных затворах с пневматическим приводом. При выявлении следов микротрещин или потери эластичности уплотнительные кольца немедленно заменяются на новые изделия.

Направляющие магнитного манипулятора очищаются от пыли специальными вакуумными растворителями высокой чистоты, что гарантирует плавное и точное позиционирование пластин на столике ростовой камеры.

Осаждение алмазоподобных трибологических покрытий DLC на платформе SC8600

Формирование сверхтвердых алмазоподобных трибологических слоев DLC на оборудовании Semicore Equipment / Semicore SC8600 требует точного контроля параметров комбинированного плазмохимического процесса PECVD и распыления металлов.

Первоначально на очищенные детали наносится адгезионный подслой хрома или титана толщиной несколько десятков нанометров методом магнетронного напыления. Затем в рабочую камеру подается углеводородная газовая смесь при контролируемом отрицательном высокочастотном смещении.

Ионная бомбардировка растущей пленки обеспечивает образование высокой доли углеродных связей sp3, придающих конечному покрытию экстремальную твердость и минимальный коэффициент сухого трения.

Калибровка кварцевых микровесов QCM и управление скоростью технологического осаждения

Калибровка кварцевых измерителей скорости напыления QCM на оборудовании Semicore Equipment / Semicore проводится для обеспечения нанометровой точности толщины осаждаемых диэлектрических и металлических слоев.

Технические специалисты лаборатории регулярно проверяют остаточный ресурс кварцевого кристалла частотой 6 МГц, заменяя сенсор при падении добротности или накоплении сдвига частоты свыше критического порога.

Корректирующий геометрический коэффициент Tooling Factor рассчитывается путем сравнения показаний прибора с реальной физической толщиной пленки на контрольном образце, измеренной на прецизионном профилометре, что исключает систематическую погрешность при многослойном осаждении сложных гетероструктур.

Регламентная замена мишеней магнетронного распыления и термостойких уплотнений

Плановая замена распыляемых катодных мишеней и защитных экранов на установках Semicore Equipment / Semicore выполняется строго по графику технологической наработки для исключения прогорания медного основания водяного охлаждения.

Специалисты измеряют профиль кольцевой зоны эрозии мишени и контролируют плотность прилегания к водоохлаждаемой опорной пластине через теплопроводящую индиевую прокладку или эластомерное вакуумное соединение.

Защитные темные экраны из нержавеющей стали демонтируются для механической или химической очистки от накопившихся паразитных осадков, снижая вероятность отслаивания чешуек и генерации микрочастиц в технологическом вакуумном объеме при длительной непрерывной серийной эксплуатации.

Semicore Equipment / Semicore и названия моделей — товарные знаки их правообладателей. Они указаны только для обозначения оборудования, для которого мы подбираем запчасти. Компания SpareX не является официальным дилером, дистрибьютором или представителем Semicore Equipment / Semicore и не связана с правообладателем. Происхождение, документы и гарантия указываются по каждой позиции в коммерческом предложении.