Оборудование и компоненты Neweastech

Технологическое полупроводниковое оборудование Neweastech BNE, треки нанесения и проявления резиста TC2000, станции химической обработки пластин XS3000 и прецизионные запчасти.

Трековые комплексы нанесения и проявления резиста BNE TC2000

Автоматические треки Neweastech BNE TC2000 разработаны для высокоточного нанесения и проявления фоторезиста в технологических процессах I-line, KrF, ArF и полиимидных слоев. Модульная архитектура обеспечивает стабильный термический контроль и прецизионную центробежную обработку пластин.

Обработка кремниевых и карбид-кремниевых пластин диаметром сто и двести миллиметров
Конфигурации рабочих модулей нанесения и проявления четыре коатера и четыре девелопера
Прецизионный термический контроль термоплит в диапазоне от пятидесяти до двухсот градусов
Производительность трекового комплекса до ста двадцати полупроводниковых пластин в час

Модульные комплексы нанесения и проявления резиста BNE TC1500

Комплексы Neweastech BNE TC1500 предназначены для технологических линий G-line, I-line и нанесения защитных полиимидных пленок на пластины до двухсот миллиметров. Система включает программируемые модули нанесения промотора адгезии HMDS и прецизионные нагревательные плиты.

Высокоскоростной шпиндель центрифуги со скоростью вращения до пяти тысяч оборотов в минуту
Поддержка полупроводниковых подложек диаметром сто пятьдесят и двести миллиметров
Программируемый модуль нанесения адгезива HMDS с однородностью нагрева до одной десятой
Повышенная технологическая производительность до ста восьмидесяти пластин за один час

Установки спрей-нанесения фоторезиста Neweastech BNE TC1000-SC

Автоматические станции Neweastech BNE TC1000-SC разработаны для равномерного спрей-распыления фоторезиста на рельефные пластины с глубокими переходными отверстиями TSV. Установка обеспечивает конформное покрытие стенок канавок и ступеней высотой до трехсот микрометров.

Конформное нанесение фоторезиста на структуры с глубиной рельефа свыше трехсот микрон
Поддержка полупроводниковых пластин диаметром от ста до трехсот миллиметров включительно
Специализированный подогреваемый вакуумный столик chuck с контролем до ста пятидесяти
Автоматическая система самоочистки форсунок распыления и встроенный сбор растворителя

Однопластинные станции химической очистки Neweastech XS3000

Станции Neweastech XS3000 выполняют прецизионную жидкостную очистку пластин по технологии RCA, удаление фоторезиста и микротравление. Оборудование оснащено системами двухпоточного гидродинамического распыления и мегазвуковыми излучателями для удаления субмикронных частиц.

Удаление загрязнений и органических пленок с кремния, арсенида галлия и карбида кремния
Жесткий контроль микрочастиц с допустимым приростом менее двадцати частиц размером 0.16
Химически стойкие тракты и рабочие камеры из фторопластов PVDF, PTFE и чистого кварца
Поддержка протоколов автоматизации SECS/GEM и сопряжение с фабричными системами MES

Прецизионная механика, руки роботов и вакуумные столики chuck

Neweastech производит высокоточные механические узлы для установок экспонирования и треков нанесения резиста. В линейку входят керамические и алюминиевые манипуляторы роботов, вакуумные столики chuck с точечным пиновым профилем и узлы предварительного оптического позиционирования pre2.

Керамические и легкие алюминиевые манипуляторы роботов для пластин до восьми дюймов
Прецизионные вакуумные столики chuck из карбида кремния SiC и алюминиевого сплава
Шлифованные шарико-винтовые передачи столов координатного перемещения stage 41 и 43 мм
Узлы предварительного позиционирования pre2 и механизмы ориентации базового среза OF

Электронные платы управления, приводы и оптические датчики

Для поддержания непрерывной работы полупроводниковых комплексов Neweastech поставляет электронные компоненты: платы управления перемещением стола, модули приводов Servopack, лазерные интерферометры и блоки импульсного питания для прецизионных оптических трактов экспонирования.

Электронные платы управления серий WL, RL, OPD, STG, LC и ALG для литографических линий
Прецизионные гелий-неоновые лазерные интерферометры моделей 5517A, 5517B, 5517C и 5517D
Сервоусилители и сервопаки Servopack для прецизионного шагового позиционирования
Специализированные ртутные лампы OSRAM HBO и USHIO SUV мощностью две тысячи ватт

Конструктивные особенности и модульная компоновка трековых систем BNE TC2000

Автоматизированные трековые комплексы Neweastech BNE TC2000 представляют собой технологические платформы нового поколения для нанесения фоторезиста и проявления рисунка топологии в полупроводниковом производстве.

Архитектура оборудования построена по принципу двухслойной башенной компоновки, что обеспечивает существенную экономию площади чистых помещений без снижения гибкости технологических маршрутов.

Внутри единого корпуса интегрированы независимые модули центробежного нанесения фоторезиста, модули жидкостного проявления, термостатированные плиты предварительного и пост-экспозиционного отжига, а также станции газофазной обработки подложек HMDS.

Перемещение пластин осуществляется высокоскоростным роботизированным манипулятором.

Термодинамический контроль и прецизионный отжиг в процессах фотолитографии

Стабильность критических размеров элементов топологии интегральных схем напрямую зависит от температурной однородности подложек во время отжига. В оборудовании Neweastech BNE TC применяются прецизионные нагревательные и охлаждающие плиты с микропроцессорным управлением по независимым контурам.

Нагревательные элементы с поверхностным разделением на термозоны обеспечивают отклонение температуры пластины не более одной десятой градуса Цельсия в диапазоне до двухсот пятидесяти градусов.

Охлаждающие плиты на основе элементов Пельтье и замкнутых контуров термостабилизации TCU быстро снижают температуру полупроводниковых пластин до заданных значений, полностью исключая термическую деформацию полимерной пленки резиста.

Технология спрей-нанесения фоторезиста на рельефные пластины и структуры TSV

Традиционное центробежное нанесение фоторезиста на подложки с глубоким топографическим микрорельефом приводит к неравномерному распределению пленки и истончению на гранях.

Для преодоления этого ограничения в специализированных установках BNE TC1000-SC реализована технология прецизионного пневматического распыления микрокапель. Форсунка специального профиля с ультразвуковой или двухфазной дисперсией формирует направленный аэрозольный факел с постоянным размером капель.

В сочетании с вращением нагретого вакуумного столика chuck это обеспечивает сплошное конформное покрытие вертикальных стенок глубоких переходных отверстий TSV и ступеней микрорельефа высотой до трехсот микрометров без образования микропузырьков.

Гидродинамическая и ультразвуковая очистка полупроводниковых подложек XS3000

Однопластинные станции жидкостной химической обработки Neweastech XS3000 предназначены для очистки кремниевых, карбид-кремниевых и арсенид-галлиевых пластин от органических загрязнений и микрочастиц.

Процесс сочетает подачу химических реагентов по технологии RCA, мегазвуковое воздействие высокой частоты и гидродинамическую обработку двухпоточными форсунками E-Flow.

За счет регулируемого распыления деионизованной воды и технологических газов частицы субмикронного диапазона эффективно отрываются от поверхности кристалла и уносятся в систему дренажа.

Закрытая камера из стойких фторполимеров PVDF и PTFE предотвращает повторное осаждение взвешенных примесей и гарантирует чистоту поверхности подложек.

Прецизионные манипуляторы роботов и вакуумные столики фиксации пластин

Для высокоточного перемещения пластин между технологическими модулями Neweastech изготавливает механические узлы манипуляторов и вакуумные столики chuck.

Захватные руки роботов производятся из высокопрочной оксидной керамики или специализированных алюминиевых сплавов, что гарантирует минимальную массу, высокую жесткость и отсутствие пылевыделения при ускорениях.

Вакуумные столики chuck изготавливаются из спеченного карбида кремния SiC с микропиновым рельефом, минимизирующим площадь непосредственного контакта с обратной стороной подложки.

Это снижает вероятность загрязнения кремния микрочастицами, предотвращает искажение фокальной плоскости при экспонировании и обеспечивает идеальное вакуумное удержание.

Диагностика оптических систем, лазерные интерферометры и ресурсные компоненты

Прецизионное позиционирование координатных столов экспонирования требует непрерывного метрологического контроля перемещения с субнанометровым разрешением.

В системах Neweastech применяются двухчастотные лазерные интерферометры серии 5517A-D в комплекте с оптическими расщепителями и приемными головками. Непрерывная калибровка оптического луча компенсирует изменения давления и температуры воздуха в чистой комнате.

Для оптических трактов поставляются сверхмощные ртутные лампы OSRAM HBO и USHIO SUV с оптимизированным спектром излучения на длинах волн линий I и G, а также электронные платы управления приводами, блоки вторичного электропитания и узлы автоматического выравнивания пластин pre2.

Neweastech и названия моделей — товарные знаки их правообладателей. Они указаны только для обозначения оборудования, для которого мы подбираем запчасти. Компания SpareX не является официальным дилером, дистрибьютором или представителем Neweastech и не связана с правообладателем. Происхождение, документы и гарантия указываются по каждой позиции в коммерческом предложении.