Annealsys 快速热处理设备与工艺配件

Annealsys 半导体快速退火设备技术选型与维护组件：AS-One 与 AS-Micro 退火炉、Zenith 高温系统、直接液体注射沉积反应器与温控仪表。

Annealsys AS-Micro 紧凑型快速热处理退火炉系统

Annealsys AS-Micro 紧凑型台式快速热处理退火系统采用高纯石英管反应腔体，专用于 3 英寸及以下晶圆与样品研发工艺。红外卤素灯阵列提供高达每秒 250 摄氏度升温速率，最高工作温度达 1250 摄氏度，满足精确热预算控制需求。

高纯石英管工艺腔体配合不锈钢精密真空密封法兰端盖结构
水冷管状反射腔体集成多组线形高功率红外卤素加热灯管模块
数字式回路温度控制器配合精密热电偶与外接光学高温计测量
多通道工艺气体混气歧管配备数字式高精度质量流量控制器

Annealsys AS-One 100 与 150 多功能快速热退火炉

Annealsys AS-One 冷壁式快速热处理系统适用于 100 毫米与 150 毫米晶圆研发与工艺制程。设备支持快速热退火、快速热氧化、热氮化以及石墨烯与二维材料快速化学气相沉积，具备脉冲退火能力以抑制热扩散效应。

水冷不锈钢冷壁反应腔体配置耐高温石英隔离光学透射窗口
双区红外卤素灯阵列加热模块配备多通道独立功率动态调节
宽范围真空工作区间覆盖常压环境至 1e-6 Torr 高真空水平
碳化硅涂层高纯石墨基底托盘确保晶圆表面温度分布高度均匀

Annealsys AS-Master 200 工业量产型快速热处理平台

Annealsys AS-Master 200 自动化快速热处理设备专为 200 毫米晶圆中试研发与规模量产设计。该机型集成预载进样真空过渡室与机械手传送机构，支持连续不间断晶圆处理作业，提供优异的工艺重复性与低缺陷率。

自动化卡匣式真空进样过渡室配置精密晶圆传输机械手系统
多控温分区红外灯管矩阵支持径向温度场动态补偿调节技术
非接触式光学高温计实时高频监测晶圆背底热辐射与瞬态温度
无缝集成干式涡轮分子泵抽气机组与电动高真空隔离插板阀门

Annealsys Zenith 2000°C 超高温快速热处理炉

Annealsys Zenith 超高温快速热退火炉专为碳化硅 SiC 与氮化镓 GaN 等宽禁带半导体材料研发设计，最高工作温度可达 2000 摄氏度并保持一小时稳定运行。设备在氩气保护或真空环境下执行离子注入后损伤修复与杂质激活退火。

高温核心加热结构支持高达 2000 摄氏度长时间稳定工艺退火
多层高纯石墨隔热热屏配合双层水冷不锈钢承压外壁防护结构
专用碳化硅涂层石墨托盘满足宽禁带晶圆离子注入后高温激活
双色光学高温计提供宽量程高精度非接触式晶圆温度闭环监测

Annealsys MC-050 与 MC-100 直接液体注射沉积设备

Annealsys MC-050 与 MC-100 直接液体注射沉积设备在单一工艺腔体内集成 DLI-CVD 与 DLI-ALD 工艺能力。该系统适用于多金属氧化物薄膜、功能过渡金属氮化物以及新型二维纳米材料合成，具备出色的前驱体汽化与分配性能。

高速高频脉冲注入阀精确分配低蒸气压与热敏性化学液体前驱体
瞬态快速汽化蒸发器具备超低死体积特性以实现界面陡峭过渡
垂直立式温壁反应腔体结构有效消除前驱体分子在壁面的次生凝结
耐腐蚀流路组件兼容活泼金属有机化学品与空气敏感性溶剂介质

Annealsys Jipelec JetFirst 与 JetLight 快速退火系统

经典 Jipelec JetFirst 与 JetLight 快速热退火平台由 Annealsys 制造并提供全生命周期工程支持。设备支持高达 300 毫米直径半导体晶圆，广泛服务于全球微电子研发机构与半导体生产线，提供成熟稳定的退火工艺表现。

水冷矩形铝合金腔体配置耐高温高透光石英隔板实现工艺气氛隔离
正交排列红外卤素灯管矩阵为 300 毫米晶圆提供高均匀度辐射热场
升级型数字温度控制系统搭配功能完备的计算机控制工艺配方软件
配套供应高品质氟橡胶密封圈、石英承载盘与红外加热灯管备件

Annealsys 快速退火炉双通道温度传感器校准与红外测温规程

Annealsys 快速热处理设备的高精度温度闭环控制依赖于双通道测温回路的精确调校。在 800 摄氏度以下的中低温退火区间，系统采用铠装热电偶或钨铼微型探针直接接触石墨基底托盘或晶圆背面以采集温度数据；当工艺温度上升至 800 摄氏度以上时，数字控制器平滑切换至非接触式双波长光学高温计。现场工艺工程师使用标准硅晶圆熔点转变特征校准高温计光学读数，补偿介质薄膜沉积导致的晶圆表面发射率动态变化，有效杜绝过冲并确保热处理配方的高度重现性。

AS-Micro 台式退火炉高纯石英管反应腔体维护与真空密封流程

Annealsys AS-Micro 紧凑型退火系统在特制高纯光学石英管反应腔体内完成热处理工艺。预防性维护作业要求定期使用强光检测石英管表面微裂纹、端口崩边与工艺腐蚀痕迹。在重置法兰端盖时，必须选用耐高温低释气氟橡胶密封圈并涂覆超高真空润滑脂。每次更换石英管后均须在超纯水中进行超声波深度清洗并在高真空下执行 600 摄氏度烘烤脱气程序，确保反应腔体基础真空度迅速恢复至 1e-2 Torr 优良水平，杜绝工艺交叉污染。

AS-One 多功能退火平台多分区红外加热场均匀性测绘与调谐

Annealsys AS-One 平台采用上下双面线形卤素灯阵列辐射加热结构，支持多通道独立分区功率动态调控。工程团队借助集成高密度热电偶测温阵列的标准晶圆对受热平面进行二维温度场测绘。通过精密修正各控温分区的数字回路参数，有效补偿晶圆边缘辐射热损耗，将晶圆表面径向温度不均匀度控制在百分之一以内。在执行脉冲快速退火时，系统可编程输出数十毫秒级灯管脉冲闪烁，实现晶圆浅表层注入杂质的高效电激活，同时避免深层结构发生热扩散。

MC-100 直接液体注射 DLI 高频喷嘴清洗与汽化混合腔维护

Annealsys MC-100 与 MC-050 薄膜沉积系统配备由高频电磁阀驱动的 DLI 液体喷雾分配装置。为避免热敏性金属有机前驱体在微细喷孔内部积碳堵塞，控制系统在每组工艺配方执行完毕后自动执行超纯高挥发性溶剂反向冲洗程序。超声微雾化汽化混合腔体定期拆卸置于超声波槽中清洗，并在显微镜下严格检查喷嘴微孔几何通畅度。按期更换特氟龙密封组件并微调注入脉冲宽度，可有效消除反应气体浓度脉动，确保纳米薄膜厚度均匀一致。

Zenith 2000°C 超高温石墨加热单元与防碳污染隔热系统保养

Annealsys Zenith 超高温退火炉专用于碳化硅与氮化镓晶圆在高达 2000 摄氏度极端条件下的热处理。其高温发热体由高纯等静压石墨与碳碳复合材料制成，外围布置多层石墨绝缘热辐射反射屏及双层水冷不锈钢承压壳体。维护规程要求每次长周期工艺后检测石墨加热棒阻值平衡性并检查陶瓷绝缘支撑柱绝缘阻抗。高纯干燥氩气流经工艺室保护石墨构件免受微量氧腐蚀，专用致密碳化硅涂层石墨托盘可阻断碳蒸气向半导体晶圆扩散。

Jipelec JetFirst 快速退火炉数字化控制平台与真空管路改造升级

在役运行的经典 Jipelec JetFirst 与 JetLight 快速退火炉可通过 Annealsys 最新数字化控制硬件实现全面性能升级。升级方案以高速工业级智能控制器替换原有机电老化控制板卡，并接入以太网通讯与图形化工艺配方软件。真空管路同步换装高速气动角阀、长寿命陶瓷轴承分子泵机组以及宽量程皮拉尼数显规管。该现代化改造方案大幅延长设备服役年限，实现工艺全参数精确数字化追溯，完全满足严苛的洁净室生产运行技术标准。

Annealsys及型号名称为其各自权利人的商标，仅用于说明我们为之寻找配件的设备。SpareX 不是Annealsys的官方经销商、分销商或代表，与商标权利人无关联。每项产品的来源、文件和质保在报价单中逐项说明。